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化工連續流反應專用溫控設備-加熱制冷系統

參考價 132566
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
  • 品       牌冠亞制冷
  • 型       號SUNDI-2A10W
  • 所  在  地無錫市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2025/5/8 13:23:17
  • 訪問次數226
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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司是一家集研發、生產和銷售為一體的GAO端裝備制造企業,專業生產研發制冷加熱控溫系統、超低溫冷凍機、半導體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統等專用設備,廣泛應用于醫藥化工、半導體、新能源、儲能、數據中心、太陽能光伏等領域。


無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司擁有數位在超低溫、高低溫開發方面具有豐富經驗的高素質專業設計人員的研發隊伍。特別是反應釜高精度控溫為單一介質控制-90度~+250度連續控溫,并且高精度線性控制反應釜物料溫度。產品溫度范圍涉及-152度到350度。


門頭.jpg


我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產力。



制冷加熱循環器、加熱制冷控溫系統、反應釜溫控系統、加熱循環器、低溫冷凍機、低溫制冷循環器、冷卻水循環器、工業冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩定性測試箱、試驗箱、培養箱、加熱制冷恒溫槽等設備。
產地 國產 產品大小 小型
產品新舊 全新 控溫方式 水冷式
自動化程度 其他
【無錫冠亞】化工連續流反應專用溫控設備-加熱制冷系統,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。
化工連續流反應專用溫控設備-加熱制冷系統 產品信息


無錫冠亞制冷加熱控溫系統的典型應用:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、

蒸餾系統控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。



型號SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介質溫度范圍-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系統前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協議MODBUS RTU 協議  RS 485接口
物料溫度反饋PT100
溫度反饋設備進口溫度、設備出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃
0.3kW0.5kW
循環泵流量、壓力max10L/min

0.8bar

max10L/min

0.8bar

max20L/min

2bar

壓縮機海立/泰康/思科普
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環系統整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W

溫度 20度


450L/H

1.5bar~4bar

G3/8

550L/H

1.5bar~4bar

G3/8

外型尺寸 cm45*65*8745*65*8745*65*120
正壓防爆尺寸
70*75*121.570*75*121.5
標配重量55kg55kg85kg
電源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外殼材質SUS 304SUS 304SUS 304
選配
正壓防爆  后綴加PEX
選配可選配以太網接口,配置電腦操作軟件
選配選配外置觸摸屏控制器,通信線距離10M
選配電源100V 50HZ單相,110V 60HZ 單相,230V 60HZ 單相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相



  

在原料藥中間體及精細化學品生產中,結晶純化是決定產品純度與質量的控溫環節。傳統控溫設備因溫度響應滯后、波動范圍大等問題,易導致晶體粒徑不均等問題,而制冷制熱一體機憑借其準確的程序控溫能力,成為提升結晶純度的關鍵設備。

一、制冷制熱一體機程序控溫技術原理

制冷制熱一體機(高低溫一體機)通過集成制冷與加熱模塊,結合閉環控制系統,可在-80℃至250℃范圍內實現±0.5℃的準確溫控,為結晶純化提供動態溫度調控能力。

影響雜質共結晶:通過程序降溫策略(如梯度降溫),控制溶質溶解度變化速率,使目標物質優先析出,減少雜質包裹。

優化晶體生長動力學:基于溶質溶解度曲線設計溫度變化路徑,調控晶核形成與生長速率,獲得晶體結構。

消除過飽和度波動:實時監測溶液過飽和度,通過PID算法動態調節換熱功率,避免局部過飽和導致雜晶生成。

二、制冷制熱一體機的技術實現

多段溫度曲線編程:設備內置PID算法支持自定義降溫曲線,無錫冠亞SUNDI系列可預設程序曲線,每程序40段參數,控溫精度±0.5℃。

夾套動態熱交換:通過反應釜夾套內的導熱介質(硅油/乙二醇)循環,實現快速熱量傳導。

三、制冷制熱一體機參數控制

1、降溫速率控制

初始階段:采用快速降溫縮短結晶誘導期,提升生產效率。

終期階段:切換為緩速降溫,促進晶體有序生長,減少位錯缺陷。

2、溫度梯度設計

垂直梯度:在多層結晶器中設置5-10/m的軸向溫差,引導晶體定向生長。

水平梯度:通過分區控溫實現溶質分布均勻化,降低邊緣效應。

四、制冷制熱一體機典型應用場景與案例

制藥行業:某原料藥結晶純化中,采用三段式降溫程序,配合緩冷階段,使雜質含量降低。

生物工程:蛋白質結晶通過程序控溫結合pH梯度調節,獲得蛋白質晶體。

精細化工:手性化合物分離利用對映體溶解度差異,在-10℃至20℃區間實施線性降溫。



化工連續流反應專用溫控設備-加熱制冷系統

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