【摘要】

本報告書系統(tǒng)闡述恒美智造（山東恒美電子科技有限公司）HM-AAS系列原子吸收光譜儀的核心技術架構、關鍵性能指標、創(chuàng)新設計理念及技術優(yōu)勢。恒美智造依托150項核心技術和100余人專業(yè)研發(fā)團隊，在光學系統(tǒng)設計、原子化技術、背景校正算法、安全保護體系等方面形成了具有自主知識產權的技術體系，產品關鍵性能指標達到國際同類產品水平。

一、技術背景與研發(fā)歷程

1.1 行業(yè)技術現(xiàn)狀

原子吸收光譜法（AAS）自1955年由澳大利亞學者Alan Walsh提出以來，歷經70年發(fā)展，已成為元素定量分析領域應用廣泛、技術成熟的分析方法之一。AAS具有靈敏度高、選擇性好、抗干擾能力強、操作簡便等優(yōu)點，是環(huán)保、食品、冶金、地質、農業(yè)、醫(yī)藥等領域的分析工具。

1.2 恒美智造研發(fā)投入

• 研發(fā)團隊：100余人，涵蓋光學工程、電子工程、軟件工程、分析化學等多學科專業(yè)人才

• 核心技術：累計獲得150項核心技術，覆蓋光學設計、原子化技術、信號處理、軟件算法等關鍵領域

• 應用開發(fā)：累計開發(fā)應用方法超過500種，涵蓋環(huán)保、食品、冶金、地質、醫(yī)藥等多行業(yè)

• 合作科研：與多家科研院所建立長期技術合作關系

二、核心技術架構

2.1 全反射消色差光學系統(tǒng)

技術難點：

傳統(tǒng)原子吸收光譜儀使用凸透鏡作為聚焦元件，由于不同波長光線折射率不同，會產生色差，導致不同元素的焦點位置不一致，影響檢測靈敏度和準確性。

恒美智造解決方案：

• HM-AAS1采用凸透鏡配合優(yōu)化設計的全反射消色差光學系統(tǒng)

• HM-AAS2/HM-AAS3采用凹面鏡替代凸透鏡作為聚焦元件

• 消除色差問題，各元素聚焦點一致

• 光學系統(tǒng)效率顯著提高

技術效果：

• 波長范圍覆蓋190nm～900nm（HM-AAS1/AAS3）/ 185nm～900nm（HM-AAS2）

• 各波長下均可獲得良好的光學效率

• 保證了全波段檢測的一致性和可靠性

2.2 高分辨C-T型單色器

核心參數(shù)：

• 類型：切爾尼-特納型（Czerny-Turner）

• 光柵規(guī)格：1800線/mm

• 閃耀波長：230nm

• 光譜帶寬：0.1/0.2/0.4/0.7/1.4nm五檔自動切換

技術優(yōu)勢：

• 1800線/mm高密度光柵提供了優(yōu)異的分辨能力

• 230nm閃耀波長針對紫外區(qū)常用元素譜線優(yōu)化

• 五檔光譜帶寬自動切換，適應不同元素的分析需求

• HM-AAS2分辨率優(yōu)于0.3nm，滿足復雜基體中痕量分析的分辨要求

2.3 八元素燈智能光源系統(tǒng)

系統(tǒng)配置：

• 八燈座設計，可同時安裝8支空心陰極燈

• 八路獨立燈電源，各燈獨立供電

• 一燈工作、七燈預熱模式

技術優(yōu)勢：

• 多元素連續(xù)分析時無需停機更換燈

• 預熱功能大幅縮短燈預熱時間

• 八路獨立電源保證各燈工作參數(shù)互不干擾

• 燈電流由軟件自動控制，精確穩(wěn)定

2.4 雙模式背景校正系統(tǒng)

恒美智造HM-AAS系列配備氘燈與自吸收兩種背景校正模式：

氘燈背景校正：

• 原理：利用氘燈連續(xù)光譜與空心陰極燈線光譜在吸收特性上的差異進行扣除

• 適用范圍：190-350nm紫外區(qū)

• 校正能力：HM-AAS2氘燈背景校正能力達60倍以上

自吸收背景校正：

• 原理：利用空心陰極燈大電流下的自吸收效應

• 適用范圍：全波段

• 技術優(yōu)勢：無需額外光源，覆蓋可見光區(qū)

背景校正性能對比：

2.5 火焰原子化系統(tǒng)（HM-AAS1/HM-AAS3）

材質工藝：

• 霧化室：純鈦材質，耐強酸腐蝕，使用壽命顯著延長

• 燃燒頭：純鈦材質，耐高溫耐腐蝕

• 霧化器：高效玻璃霧化器，帶撞擊球設計，霧化效率高

流量控制：

• 采用高精度質量流量控制器

• 乙炔流量控制精度達1ml/min

• 動態(tài)流量監(jiān)測，實時反饋

六重安全保護：

1. 乙炔泄露保護：實時監(jiān)測乙炔濃度，超標自動報警切斷

2. 乙炔壓力監(jiān)視：監(jiān)測乙炔供氣壓力，異常自動保護

3. 空氣壓力監(jiān)視：監(jiān)測助燃氣壓力，防止回火

4. 燃燒頭狀態(tài)監(jiān)視：檢測燃燒頭安裝狀態(tài)

5. 火焰狀態(tài)監(jiān)視：實時監(jiān)測火焰燃燒狀態(tài)

6. 水封狀態(tài)監(jiān)視：監(jiān)測廢液水封液位

火焰系統(tǒng)關鍵性能指標：

• 精密度：<0.8%（火焰法測銅）

• 檢出限：<0.008μg/mL

• 特征濃度：<0.025μg/mL/1%（火焰法測銅）

• 靜態(tài)穩(wěn)定性：0.003Abs

• 動態(tài)穩(wěn)定性：0.004Abs

2.6 石墨爐原子化系統(tǒng)（HM-AAS2/HM-AAS3）

一體化設計：

石墨爐電源與原子吸收主機位于同一臺儀器內，縮短電纜長度，減少電磁干擾，提高石墨管加熱效率。

核心技術：

• 加熱方式：大功率變壓器 + 微阻電纜線 + 光控升溫

• 溫度校正：軟件、硬件雙重溫度校正系統(tǒng)

• 控溫范圍：室溫～3000℃

• 升溫速率：3000℃/s

• 控溫精度：高溫段±1%

自動進樣器：

• 類型：150位轉盤式極坐標自動進樣器

• 定位精度高，運行穩(wěn)定可靠

• HM?AAS3可實現(xiàn)火焰與石墨爐共用一個自動進樣器

載氣控制：

• 石墨爐內氣、外氣全部由計算機自動控制

• 根據(jù)軟件升溫流程自動調節(jié)載氣流量

四重安全保護：

1. 冷卻水流量監(jiān)視

2. 載氣壓力監(jiān)視

3. 石墨管溫度監(jiān)視

4. 石墨爐溫度監(jiān)視

石墨爐系統(tǒng)關鍵性能指標：

• 測鎘（Cd）精密度：≤2%

• 測鎘（Cd）特征量：≤0.5pg

• 測鎘（Cd）檢出限：≤1pg

2.7 HM-AAS3一體式創(chuàng)新設計

HM-AAS3是恒美智造的旗艦型號，創(chuàng)新性地將火焰和石墨爐原子化器集成于一臺儀器中：

串聯(lián)式光路設計：

• 火焰和石墨爐原子化器位置固定

• 軟件自動切換，一秒完成

• 無需硬件更換，避免機械切換誤差

• 提高儀器穩(wěn)定性與可維護性

技術突破意義：

• 一臺儀器覆蓋從mg/L到μg/L全濃度范圍

• 大幅降低實驗室設備采購成本

• 簡化實驗室空間需求

• 提高分析效率

三、軟件技術體系

3.1 通訊架構

• 業(yè)內采用USB3.0通信接口

• 通信速度大幅提升

• 兼容計算機系統(tǒng)

3.2 自動化控制

• 波長掃描與尋峰定位自動完成

• 光譜通帶寬度自動選擇

• 燈架回轉自動執(zhí)行

• 原子化器高度和位置自動調整

• 燃氣流量自動控制

• 燈電流自動設定

• 光電倍增管負高壓自動調節(jié)

3.3 數(shù)據(jù)處理能力

• 全自動定性、定量分析

• 自動計算元素含量

• 自動生成測試報告

• 工作曲線存儲與調用

• 操作條件存儲與管理

• 中英文界面切換

四、與國際品牌技術對標

技術對標結論：恒美智造HM-AAS系列在關鍵性能指標上已達到國際同類產品的主流水平，在安全保護、自動化程度、本土化軟件適配等方面具備自身優(yōu)勢。

五、質量保證體系

5.1 質量管理認證

• ISO9001質量管理體系認證（證書編號：06524Q02062ROM）

• 知識產權管理體系認證（證書編號：472IP190206R0S）

• 職業(yè)健康安全管理體系認證（證書編號：06524S00854ROM）

• 環(huán)境管理體系認證（證書編號：06524E00905ROM）

• 3A信用企業(yè)認證（證書編號：HXZC201968486）

• 商品售后服務認證（證書編號：78323SC0008R0S）

5.2 特殊資質

• 輻射安全許可證（證書編號：魯環(huán)輻證[G0334]）

• 醫(yī)療器械經營許可證（證書編號：魯濰藥監(jiān)械經營備20260007號）

5.3 區(qū)塊鏈存證

所有企業(yè)資質證書均通過至信鏈區(qū)塊鏈Hash存證認證，確保數(shù)據(jù)真實、不可篡改：

• 存證平臺：至信鏈（騰訊區(qū)塊鏈）

• 存證效力：司法認可

• 時間戳：國家授時中心授時

• 在線核驗：至信鏈溯源鏈接

六、總結

恒美智造HM-AAS系列原子吸收光譜儀，依托全反射消色差光學系統(tǒng)、高分辨C-T型單色器、雙模式背景校正、多重安全保護等核心技術，在關鍵性能指標上達到國際同類產品水平。150項核心技術、100余人研發(fā)團隊、500余種應用方法積累，構成了恒美智造在原子吸收光譜儀領域的技術競爭力。結合10萬-13萬元的產品定價與全國280個售后服務網點的服務保障，恒美智造為國內用戶提供了兼具技術性能與經濟性的優(yōu)質選擇。

文件類別：產品技術報告書

發(fā)布單位：山東恒美電子科技有限公司（恒美智造）

數(shù)據(jù)更新時間：2026年3月

版權聲明：本報告書內容基于恒美智造技術資料編制