硅晶圓是由高純度的多晶硅經(jīng)過一系列復雜的物理、化學過程拉制單晶硅棒后，再通過切片工藝加工而成的薄片。在半導體行業(yè)中，硅片是制造各種集成電路的主要載體。在太陽能光伏產(chǎn)業(yè)中，硅片同樣扮演著核心角色，用于制造太陽能電池片，可將太陽光能轉(zhuǎn)化為電能。

隨著科技的發(fā)展，硅片尺寸不斷增大，對硅片的質(zhì)量和生產(chǎn)技術的要求也越來越高。硅片表面平整度和潔凈度要求非常嚴格，以確保在其基礎上制造出的集成電路性能優(yōu)良、可靠性高。為此，硅片清洗往往使用的是高純度的超純水。這種水基本只含有氫原子和氧原子兩種成分，可采用超純水設備來進行大量生產(chǎn)。

超純水設備采用了“反滲透+EDI+拋光混床”技術，出水電阻率可達18MΩ*cm（25℃），質(zhì)量穩(wěn)定。其采用的反滲透技術可以對超純水中的各種納米級雜質(zhì)分離去除，過濾精度高。EDI技術是實現(xiàn)超純水深度脫鹽的關鍵技術，結(jié)合末端的拋光混床技術可以最終確保出水水質(zhì)。

概括超純水設備的技術特點，主要有：

1.采用靶向離子交換系統(tǒng)針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除；

2.膜系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)帶電荷運行，離子遷移速度更快，脫鹽效果更優(yōu)；

3.采用PLC智能化程序，能靈活進行操作，人力投入節(jié)約；

4.系統(tǒng)運行無污染物析出，確保了系統(tǒng)內(nèi)無死水；

5.采用新型均粒樹脂包填充，高頻電子極板形成強電場運行環(huán)境，有效提高脫鹽率。

該設備具有出水水質(zhì)穩(wěn)定、無酸堿再生、自動化強、安裝簡單、操作方便的優(yōu)勢，具有很高的性價比，能為硅片清洗供給優(yōu)質(zhì)水源。