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內外皆精密｜半導體行業氯硅烷分析應用文集重磅發布

來源：珀金埃爾默企業管理（上海）有限公司   2025年09月04日 17:31  
 

 

　　在半導體制造過程中，電子氣體的純度直接影響芯片的良率與器件性能。隨著先進制程節點的不斷推進，對氣體純度的要求也日益嚴格，雜質控制需達到ppb(十億分之一)乃至ppt(萬億分之一)級別。其中，氯硅烷類化合物(如三氯氫硅、四氯化硅等)以及高純載氣(如He、H?、Ar、N?、Cl?、HCl等)作為關鍵工藝氣體，廣泛應用于多晶硅、單晶硅及薄膜沉積等環節。
 
　　然而，氯硅烷在生產、儲存及使用過程中容易產生多種雜質，如磷化氫、氧、氮、碳氫化合物等，這些雜質對最終材料的電學性能與穩定性產生顯著影響。因此，建立一套穩定、靈敏、準確的分析方法，實現對氯硅烷及其工藝氣體中雜質的高效檢測，已成為提升產品質量與工藝控制水平的關鍵環節。
 
　　珀金埃爾默基于多年在半導體材料檢測領域的技術積累，結合先進的氣相色譜與質譜平臺，開發出適用于多種氣體基質的高靈敏度檢測方法，助力企業實現高純氣體與氯硅烷工藝的全面質量控制。
 
  文集目錄  
 
　　  高純氣體中的雜質檢測  
 
　　 1 　高純He中微量H?、O?、Ar、N?、CH?、CO、CO?雜質的測定
 
　　 2 　高純H?中微量O?、Ar、N?、CH?、CO、CO?雜質的測定
 
　　 3 　高純Ar中微量H?、N?、CH?、CO、CO?雜質的測定
 
　　 4 　高純N?中微量H?、O?、Ar、CH?、CO、CO?雜質的測定
 
　　 5 　高純HCl中微量H?、O?、Ar、CH?、CO、CO?雜質的測定
 
　　 6 　高純Cl?中微量H?、O?、Ar、CH?、CO、CO?雜質的測定
 
　　  氯硅烷及相關工藝檢測應用  
 
　　 1 　工業用硅烷氣體中微量二氯二氫硅、三氯氫硅、四氯化硅雜質的測定
 
　　 2 　氯硅烷工藝中回收氫和還原尾氣中氯硅烷組分的測定
 
　　 3 　回收氫氣中微量磷化氫的測定
 
　　 4 　氯硅烷工藝回收氫氣中的O?和N?測定
 
　　 5 　三氯氫硅的組分測定
 
　　 6 　氯硅烷中碳含量測定
 
　　 7 　高純三氟化氮中微量雜質氣體檢測
 
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珀金埃爾默半導體行業氯硅烷分析應用文集

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